Wednesday, 13 February 2013

Chemical Cleaning


Chemical Cleaning

Pembersihan dengan menggunakan proses kimiawi juga diperlukan pada bagian-bagian tertentu. Adapun bagian mana saja yang harus dibersihkan dengan menggunakan proses tersebut dapat dilihat pada P&ID dan line index. Proses kimia yang digunakan biasanya adalah sebagai berikut:
-          Degassing.
-          Chemical cleaning/decaling.
-          Neutralization
-          Passivation.
-          Water flushing.
-          Drying.
Suhu operasi yang digunakan selama proses kimiawi tersebut tidak boleh melebihi suhu desain maksimum seperti yang telah ditentukan pada line index. Secara umum, bagian-bagian berikut tidak boleh dibersihkan dengan pembersih kimia:
-          Piping system dengan material campuran tembaga.
-          Flexible hoses.
-          Vessels.
-          Exchangers.
-          Pompa.
-          Seluruh mur/baut yang terpasang pada valve dan instrument.
Chemical cleaning ini biasanya dilakukan setelah pengujian tekan. Jika kegiatan commissioning dilakukan lebih dari 3 bulan, sistem harus dilindungi dengan menggunakan nitrogen dan overpressured dilakukan pada tekanan sebesar 0.5 bar.

2 comments:

  1. izin copas ya gan :) buat materi belajar kimdas nih :D terima kasih gan....

    ReplyDelete
  2. infonya bagus, cuma kalau boleh saran coba ditambahkan proses chemical cleaning berapa lamanya dan setelah chemical cleaning pembersihan menggunakan media apa dan alat apa aja.

    ReplyDelete

"Yang Copy-Paste, izin yah.! Biar berkah "
Pembaca yang baik. Setelah baca dikomeng. Budayakan Komenk Spontan.