Wednesday, 13 February 2013

Chemical Cleaning


Chemical Cleaning

Pembersihan dengan menggunakan proses kimiawi juga diperlukan pada bagian-bagian tertentu. Adapun bagian mana saja yang harus dibersihkan dengan menggunakan proses tersebut dapat dilihat pada P&ID dan line index. Proses kimia yang digunakan biasanya adalah sebagai berikut:
-          Degassing.
-          Chemical cleaning/decaling.
-          Neutralization
-          Passivation.
-          Water flushing.
-          Drying.
Suhu operasi yang digunakan selama proses kimiawi tersebut tidak boleh melebihi suhu desain maksimum seperti yang telah ditentukan pada line index. Secara umum, bagian-bagian berikut tidak boleh dibersihkan dengan pembersih kimia:
-          Piping system dengan material campuran tembaga.
-          Flexible hoses.
-          Vessels.
-          Exchangers.
-          Pompa.
-          Seluruh mur/baut yang terpasang pada valve dan instrument.
Chemical cleaning ini biasanya dilakukan setelah pengujian tekan. Jika kegiatan commissioning dilakukan lebih dari 3 bulan, sistem harus dilindungi dengan menggunakan nitrogen dan overpressured dilakukan pada tekanan sebesar 0.5 bar.

1 comment:

  1. izin copas ya gan :) buat materi belajar kimdas nih :D terima kasih gan....

    ReplyDelete

"Yang Copy-Paste, izin yah.! Biar berkah "
Pembaca yang baik. Setelah baca dikomeng. Budayakan Komenk Spontan.